随着高层建筑物的日益增多，大理石的需求量也随之迅速增加，但目前生产的大理石随着时间的流逝表面会变得粗糙，失去原来的光泽，因而达不到高层建筑物的外观要求。目前大理石的加工方法很多，但生产工艺不外有锯料、粗磨、细磨、抛光和打蜡抛光及按尺寸切割等工序。近几年来我们着重研究了抛光和打蜡工序，并取得了一些经验，基本上达到了大理石表面光泽度的要求，在大理石上应用这项新工艺效果良好。
 根据大理石的化学成分及其莫氏硬度可采用不同的磨具和冷却液进行加工。在整个磨削过程中水系冷却液采用温水比冷水效果好；在粗磨和细磨时采用1%的硝酸锌水系冷却液比纯水系冷却液效率高；在精磨和抛光时采用1%的硫酸铝钾或硫酸锌或硫代硫酸钠比纯水系冷却液效率高，且可降低大理石表面粗糙度。莫氏硬度为5以上的硬材料然后工序可采用精磨工序，莫氏硬度为5以下的软材料然后磨削可采用抛光工序。精磨可用以酚醛树脂为主体树脂、以环氧树脂为辅助树脂组成的基体，粘结金刚砂和白刚玉微粉的精面磨具。抛光工序可用以酚醛树脂为主体，粘结二氧 化二铬和三氧 化二铁微粉的抛光磨具。磨具的覆盖率一般采用70%左右为优。在基模上的磨片分布尽可能采用均匀分布，这有利于提高大理石表面的平面度。
精磨或抛光工序结束后应把水分除尽以待打蜡抛光。首先在抛光机上用毛毡进行干抛光，此时也可用W1白刚玉抛光粉。然后用干净软布把大理石表面擦干净，随后用毛毡打蜡抛光。降低大理石表面粗糙度的关键是 打蜡的致密性，致密性越高粗糙度越低。在显微镜下观察大理石的抛光表面可看到很多微小的空穴，所以打蜡抛光时应把摆架压力尽可能调大些，这不仅有利于提高打蜡的致密性，也有利于填满微小空穴，使得大理石表面更加光亮。较好的方法是 选择圆盘木模具在打蜡表面上再一次进行抛光。在圆盘的工作表面开方槽，方槽的分布形式采用纵横平行等距离排列，同时圆盘中部虚一点为好，这有利于提高打蜡的致密性。用圆盘木模具抛光后难免出现一些脏点，用软布擦一下打蜡抛光表面，会更能降低打蜡抛光表面的粗糙度。之后用毛刷涂一层由聚乙烯醇、多聚甲醛和硅酸钠等组成的混合镀膜液，随后用脱脂棉沾一下硫酸铝钾或硫代硫酸钠溶液清洗一次镀膜表面，则立即形成一层犹如塑料薄膜似的保护膜，保护膜厚度一般控制在3一10μm之间为优。用脱脂棉或干净软布擦干净水分之后在保护膜上再一次用毛毡和圆盘木模具打蜡抛光，随后用干净软布擦一下其表面，则即可显现出映照如镜的光泽。
混合镀膜后的光泽度一般用光电光度计测量时，其读数都可达到100以上，且在水里浸很长时间后其光泽度变化不大，而没有镀膜的大理石在水里浸较长时间后其表面粗糙度明显增加。虽然聚苯乙烯塑料和虫胶镀膜的粗糙度较细，但操作不易且成本高，因而不适合在实际生产中采用。混合镀膜成本很低且操作简便，实际生产中的经济效益较高。上述降低大理石表面粗糙度的工艺方法在经提高济效益方面是 一个行之有效的方法，不过还存在着镀膜强度不够坚硬的缺点，有待进一步深入研究和解决。
大理石平台检测平台标准的检验工具是 电子水平仪，大理石平台的放置与调整检定前通过改变三个支承点高度，用水平仪将大理石平台大致调至水平，使平板的负荷均匀分布于各支点上。大平板增加的支承点需垫平稳，不可破坏水平面。用水平仪检定时，大理石平台本身为测量基面，其放置应稳定；用自准直仪检定时，仪器与平板不在同一刚体上。仪器支架牢固性尤为重要。所以检定规程要求检定场地应牢固稳定，检定地点应避免振动。这是 因为：工厂常将小平板置于钳工台或桌子上，牢固稳定性差。检定人员在平板附近的走动、检定工具在平板上的移动，都会产生不同的重力，使平板的空间位置发生变化，测量结果不可靠。所以检定这类平板时，平板应移至牢固稳定的场地上，避免重力变化对测量结果的影响。
对于检定人员在特大花岗石平板上检定时的移动，更应考虑 检定场地的稳定性，注意重力变化的影响。检定工具(水平仪或反射镜及桥板)重量较重，当其放在不同位置时，平板的三个支点负荷发生不均衡变化，造成平板与支承间产生接触变形。检定时除应考虑 检定地点稳定外，还应注意检定工具的重量，必要时应增加辅助支承来增强平板放置的牢固性。大理石平台的精度保障。
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